在半導(dǎo)體器件工藝實(shí)驗(yàn)中．化學(xué)清洗是指清除吸附在半導(dǎo)體、金屬材料以及用具表面上的各種有害雜質(zhì)或油污。清洗方法是利用各種化學(xué)試劑和有機(jī)熔劑與吸附在被清洗物體表面上的雜質(zhì)及油污發(fā)生化學(xué)反應(yīng)和溶解作用，或伴以超聲。加熱、抽真空等物理措施，使雜質(zhì)從被清洗物體的表面脫附（或稱解吸），然后用大量高純冷熱去離子水沖洗，從而獲得潔凈的物體表面。

工藝實(shí)驗(yàn)中每個實(shí)驗(yàn)都有化學(xué)清洗的問題，化學(xué)清洗的好壞對實(shí)驗(yàn)結(jié)果有嚴(yán)重的影響，處理不當(dāng)，則得不到實(shí)驗(yàn)結(jié)果或?qū)嶒?yàn)結(jié)果不好。因此弄清楚化學(xué)清洗的作用和原理，對做好工藝實(shí)驗(yàn)有著重要的意義。大家知道，半導(dǎo)體的重要特性之一是對雜質(zhì)十分敏感，只要有百萬分之一，甚至微量的雜質(zhì)，就會對半導(dǎo)體的物理性質(zhì)有所影響，我們就是利用這一特性，通過摻雜的方法．制作各種功能的半導(dǎo)體器件。但也由于這一特性，給半導(dǎo)體器件工藝實(shí)驗(yàn)帶來麻煩和困難．所使用的化學(xué)試劑、生產(chǎn)工具，清洗用的水等都可能成為有害雜質(zhì)的沾污源．即使是清潔的半導(dǎo)體晶片，較長時間暴露于空氣之中．也會引入明顯的雜質(zhì)沾污?；瘜W(xué)清洗就是消除有害雜質(zhì)沾污，保持硅片表面清潔。

化學(xué)清洗主要包括三個方面的清洗，一是硅片表面的清洗；二是使用的金屬材料（如作蒸發(fā)電極用的鎢絲，作蒸發(fā)墊板用的鉬片、作蒸發(fā)源用的鋁合金，制鉻板用的鉻等）的清洗；三是所用工具、器皿（如金屬鑷子．石英管、玻璃容器、石墨模具、塑料和橡膠制品等）的清洗。

高壓清洗工業(yè)設(shè)備的好處：

1.清洗成本低：首先，高壓水射流使用的介質(zhì)是自來水；其次，不需要添加任何填料和洗滌劑；第三，節(jié)約用水和能源。高壓清洗用水量僅為每小時3-5立方，所用功率僅為37-90千瓦。

2.清洗速度快：由于水射流的沖刷、剪切、契劈、磨削等復(fù)合破碎作用，水垢可以立即破碎并脫落。它比傳統(tǒng)的噴砂法、化學(xué)法、簡單機(jī)械法和手工方法快數(shù)倍到幾十倍，效率非常高。

3.清洗質(zhì)量好：清洗管道和換熱器內(nèi)孔時，能清理管道內(nèi)的水垢和堵塞物，并能看到金屬體。高壓水射流能量巨大，以超音速運(yùn)動，容易破壞管道中的硬垢和堵塞。同時，高壓水的壓力小于管道的抗壓強(qiáng)度，對管道無破壞作用。是真正的高質(zhì)量疏通清理。傳統(tǒng)的竹片疏通和疏通機(jī)疏通只能解決管道一時的問題，不能從根本上解決問題。

4.無環(huán)境污染：與噴砂和簡單機(jī)械清洗不同，水射流清洗不會產(chǎn)生大量粉塵，污染大氣環(huán)境，損害人體健康。也不像化學(xué)清洗，產(chǎn)生大量的酸堿廢液，污染水質(zhì)、土壤和河流。噴水器以自來水為介質(zhì)，無臭、無味、無環(huán)境污染。